ASML關鍵元件供應商TRUMPF：High-NA EUV最慢3年將成為主流

全球EUV雷射光源龍頭TRUMPF（創浦）全球首席技術長BertholdSchmidt今日接受台灣媒體訪問表示，High-NAEUV（高數值孔徑極紫外光微影）設備將是半導體製程的最終發展方向，估計最...

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