華為余承東證實 大陸正研發EUV曝光機

華為終端BG董事長余承東證實，目前大陸正研發極紫外光（EUV）曝光機。不過現階段量產晶片的主流製程路徑，還是依托已完全實現國產化的深紫外（DUV）曝光機。IT之家報導，華為海外X帳號，發布余承東日前...

原文連結：UDN 兩岸