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南韓EUV需求成長超越台灣 雷射大廠:High-NA將成主流、未來兩年是關鍵

南韓EUV需求成長超越台灣 雷射大廠:High-NA將成主流、未來兩年是關鍵

南韓EUV需求成長超越台灣 雷射大廠:High-NA將成主流、未來兩年是關鍵

生成式AI、高效能運算(HPC)與先進製程競賽持續升溫,帶動High-NA EUV光刻設備成為全球半導體設備產業下一波焦點。作為ASML EUV光源核心供應商,德國雷射大廠創浦(Trumpf)表示,目前正與ASML合作...

原文連結:DIGITIMES 科技

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