台積電攜ASML推進12吋光罩　2031年建試產線攻先進製程

（中央社記者張建中新竹8日電）台積電今天宣布，與ASML展開合作，共同推動轉移升級至12吋光罩，將微影技術的價值發揮到極致，消除需要兩張6吋光罩在High NA EUV曝光時進行拼接的限制，目標於2031年之前建立12吋光罩試產線，並於2033年之前實現微影系統全面就緒，以支援先進製程量產。

原文連結：中央社 產經