隱形冠軍40年砌成「最複雜機器」EUV護城河　一張照片見證半導體產業新時代

AI浪潮持續推升全球半導體投資，也讓極紫外光（EUV）微影技術的重要性再度攀升。作為ASML EUV曝光機CO₂雷射光源關鍵供應商，同時也是「隱形冠軍」的德國雷射大廠創浦（Trumpf），技術長Berthold...

原文連結：DIGITIMES 科技